镀膜靶材是指在真空蒸发镀膜过程中,用于制备金属或合金薄膜的一种基体材料。常见的有:钛、钽、钨、钼、铬、铁、铜等金属;也可以使用玻璃、陶瓷、塑料、石墨、碳等非金属作为镀膜靶材。
镀膜靶材是指在真空蒸发镀膜过程中,用于制备金属或合金薄膜的一种基体材料。常见的有:钛、钽、钨、钼、铬、铁、铜等金属;也可以使用玻璃、陶瓷、塑料、石墨、碳等非金属作为镀膜靶材。目前主要应用的镀膜靶材有:钛靶、钽靶、钨靶、钼靶、铬靶、铁靶、铜靶、不锈钢靶、玻璃靶和碳靶等。